发明名称 Eine bipolare Transistorstruktur und ein Verfahren zum Herstellen einer bipolaren Transistorstruktur
摘要 Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine bipolare Transistorstruktur (100) Folgendes enthalten: ein Substrat (102), eine Kollektorzone (104c) im Substrat (102), eine über der Kollektorzone (104c) angeordnete Basiszone (104b), eine über der Basiszone (104b) angeordnete Emitterzone (104e), einen Basisanschluss (106), der die Basiszone (104b) lateral elektrisch kontaktiert, wobei der Basisanschluss (106) Polysilicium enthält.
申请公布号 DE102015108832(A1) 申请公布日期 2015.12.10
申请号 DE201510108832 申请日期 2015.06.03
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES DRESDEN GMBH 发明人 DAHL, CLAUS;TILKE, ARMIN;TSCHUMAKOW, DMITRI ALEX
分类号 H01L29/737;H01L21/331 主分类号 H01L29/737
代理机构 代理人
主权项
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