| 发明名称 |
Electrical charge regulation for a semiconductor substrate during charged particle beam processing. |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
NL2012497(A) |
申请公布日期 |
2015.12.10 |
| 申请号 |
NL20142012497 |
申请日期 |
2014.03.24 |
| 申请人 |
MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. |
发明人 |
PIETER LUCAS BRANDT |
| 分类号 |
H01J37/02;H01J37/20;H01J37/317 |
主分类号 |
H01J37/02 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
