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发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR FORMING INSULATING FILM CONTAINING SILICON OXY-NITRIDE
摘要
申请公布号 KR100682190(B1) 申请公布日期 2007.02.12
申请号 KR20000051961 申请日期 2000.09.04
申请人 发明人
分类号 H01L21/314;C23C16/30;C23C16/44;C23C16/56 主分类号 H01L21/314
代理机构 代理人
主权项
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