炭素膜、炭素膜の製造方法、及び炭素膜フィルタ

摘要

フェノール性水酸基が１０，０００ｐｐｍ以下であり、酸性条件下に曝された後も分離性能が低下し難い炭素膜の製造方法を提供する。基材に形成されたフェノール樹脂を含む樹脂溶液膜を乾燥させる乾燥工程と、乾燥された前記樹脂溶液膜を、真空中６００〜９００℃又は窒素雰囲気下６５０〜９００℃で加熱することによって炭化させて、フェノール性水酸基が１０，０００ｐｐｍ以下である炭素膜を得る炭素膜作製工程と、を有する炭素膜の製造方法。