| 发明名称 | 阵列基板的制备方法，阵列基板、显示面板、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种阵列基板的制备方法，阵列基板、显示面板、显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有技术中阵列基板的挡光层和有源层分别图形化产生工艺复杂、成本较高的问题。本发明的阵列基板的制备方法，阵列基板、显示面板、显示装置，由于采用同一掩膜板将阵列基板的挡光层和有源层进行图形化，节省了掩膜板的数量、节省了一步构图工艺、降低了成本；同时无需考虑构图工艺过程中的对齐问题，降低对设备的要求和控制精度。 | ||
| 申请公布号 | CN105140177A | 申请公布日期 | 2015.12.09 |
| 申请号 | CN201510434559.X | 申请日期 | 2015.07.22 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 发明人 | 赵生伟;刘华锋;张凯 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 柴亮;张天舒 |
| 主权项 | 一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：采用同一掩膜板形成间隔布置的非晶硅层和多晶硅层的图形的步骤。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||