一种真空装置

摘要

本实用新型涉及一种真空装置，属于化工生产技术领域。装置包括真空泵、真空缓冲罐、吸收罐、真空保护罐、真空设备和氮气缓冲罐。其中：吸收罐盛装吸收剂，用于吸收有机化合物；真空缓冲罐与吸收罐，采用普通的放空方式恢复常压；真空保护罐连同蒸馏装置，采用充入氮气恢复常压。本实用新型的装置用于含有氨基、易氧化、对湿气敏感的有机化合物的减压处理，具有操作简单、吸收剂无损耗、消除了尾气污染、产品质量稳定的特点，适用于有毒有害易燃易爆危险化学品的工业生产。

主权项

一种真空装置，其特征是该装置包括真空泵(1)、真空缓冲罐(2)、吸收罐(3)、真空保护罐(4)、真空设备(5)和氮气缓冲罐(6)；所述真空泵(1)通过真空阀a(9)连接真空缓冲罐(2)顶部的出气口，真空缓冲罐(2)顶部的进气口通过平衡管(14)连接吸收罐(3)顶部的出气口，吸收罐(3)顶部的进气口安设插底管a(19)，插底管a(19)顶部通过真空阀b(20)连接真空保护罐(4)顶部的出气口，真空保护罐(4)顶部的尾气入口通过真空阀c(25)连接真空设备(5)，真空保护罐(4)顶部的氮气入口通过氮气阀a(23)连接氮气缓冲罐(6)顶部的氮气出口；所述真空泵(1)为机械真空泵或水喷射真空泵；所述真空缓冲罐(2)为椭圆形封头储罐，底部的放尽口通过放尽阀a(8)连接放尽管a(7)，顶部的放空口通过放空阀a(10)连接放空管a(11)，顶部的测压口安设真空表(12)；所述吸收罐(3)为椭圆形封头储罐，底部的放尽口通过放尽阀b(15)连接放尽管b(16)，顶部的吸收剂口通过吸收剂阀(21)连接吸收剂管(22)，顶部的液位口安设顶装式液位计(13)；所述真空保护罐(4)为椭圆形封头储罐，底部的放尽口通过放尽阀c(18)连接放尽管c(17)，顶部的测压口安设压力‑真空两用计a(24)；所述真空设备(5)为使用真空的设备或装置，在‑0.1～0MPa真空度下作业；所述氮气缓冲罐(6)为椭圆形封头储罐，底部的放尽口通过放尽阀d(32)连接放尽管d(33)，顶部的测压口安设压力‑真空两用计b(27)，顶部的放空口通过放空阀b(26)连接放空管b(28)，顶部的氮气入口安设插底管b(31)，插底管b(31)顶部通过氮气阀b(30)连接供氮管(29)。