发明名称 |
一种FINFET以及采用该FINFET的应用电路 |
摘要 |
本发明提供一种FINFET以及采用该FINFET的应用电路,所述FINFET包括源极、栅极、漏极和偏置极,所述源极和漏极形成于衬底上且在源极和漏极之间形成有沟道区域,在所述沟道区域的外侧形成有栅氧层,所述栅极和所述偏置极形成于所述栅氧层的外侧,并且所述栅极和所述偏置极间隔有一定的距离。与现有技术相比,本发明中的FINFET将现有技术中的栅极分成栅极和偏置极,并将偏置极连接至偏置电压,可以减小FINFET关断时漏极和源极之间的漏电流,同时还可以减小FINFET的开关功率损耗。 |
申请公布号 |
CN102956693B |
申请公布日期 |
2015.12.09 |
申请号 |
CN201210433285.9 |
申请日期 |
2012.11.01 |
申请人 |
无锡中星微电子有限公司 |
发明人 |
王钊 |
分类号 |
H01L29/423(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H03K17/687(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/423(2006.01)I |
代理机构 |
无锡互维知识产权代理有限公司 32236 |
代理人 |
戴薇 |
主权项 |
一种FINFET,其特征在于,其包括源极、栅极、漏极和偏置极,所述源极和漏极形成于衬底上且在源极和漏极之间形成有沟道区域,在所述沟道区域的外侧形成有栅氧层,所述栅极和所述偏置极形成于所述栅氧层的外侧,并且所述栅极和所述偏置极间隔有一定的距离,所述偏置极与固定的偏置电压相连,所述FINFET为P型FINFET,所述源极和漏极都为P+有源区,所述沟道区域为N型半导体材料,所述偏置极上的偏置电压大于所述源极上的电压;或者,所述FINFET为N型FINFET,所述源极和漏极都为N+有源区,所述沟道区域为P型半导体材料,所述偏置极上的偏置电压小于所述源极上的电压。 |
地址 |
214028 江苏省无锡市新区太湖国际科技园清嘉路530大厦A区10层 |