发明名称 一种FINFET以及采用该FINFET的应用电路
摘要 本发明提供一种FINFET以及采用该FINFET的应用电路,所述FINFET包括源极、栅极、漏极和偏置极,所述源极和漏极形成于衬底上且在源极和漏极之间形成有沟道区域,在所述沟道区域的外侧形成有栅氧层,所述栅极和所述偏置极形成于所述栅氧层的外侧,并且所述栅极和所述偏置极间隔有一定的距离。与现有技术相比,本发明中的FINFET将现有技术中的栅极分成栅极和偏置极,并将偏置极连接至偏置电压,可以减小FINFET关断时漏极和源极之间的漏电流,同时还可以减小FINFET的开关功率损耗。
申请公布号 CN102956693B 申请公布日期 2015.12.09
申请号 CN201210433285.9 申请日期 2012.11.01
申请人 无锡中星微电子有限公司 发明人 王钊
分类号 H01L29/423(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H03K17/687(2006.01)I 主分类号 H01L29/423(2006.01)I
代理机构 无锡互维知识产权代理有限公司 32236 代理人 戴薇
主权项 一种FINFET,其特征在于,其包括源极、栅极、漏极和偏置极,所述源极和漏极形成于衬底上且在源极和漏极之间形成有沟道区域,在所述沟道区域的外侧形成有栅氧层,所述栅极和所述偏置极形成于所述栅氧层的外侧,并且所述栅极和所述偏置极间隔有一定的距离,所述偏置极与固定的偏置电压相连,所述FINFET为P型FINFET,所述源极和漏极都为P+有源区,所述沟道区域为N型半导体材料,所述偏置极上的偏置电压大于所述源极上的电压;或者,所述FINFET为N型FINFET,所述源极和漏极都为N+有源区,所述沟道区域为P型半导体材料,所述偏置极上的偏置电压小于所述源极上的电压。
地址 214028 江苏省无锡市新区太湖国际科技园清嘉路530大厦A区10层