发明名称 深冷处理装置
摘要 本发明的目的在于提供一种深冷处理装置,该深冷处理装置能够均匀地冷却被冷却物,并且能够削减被冷却物的冷却中所使用的液态制冷剂。具有从设置于构成被冷却物载置室(43)的冷却槽(13)的贯通孔(14)延伸至被冷却物载置室(43)的内部且具有排气口(56)的排气部件(31),排气口(56)配置在被冷却物载置室(43)中的、作为位于上半部分的空间且横向宽度与吸入口(48)的横向最大宽度一致的排气口配置空间(59)中。
申请公布号 CN105143794A 申请公布日期 2015.12.09
申请号 CN201480016293.0 申请日期 2014.03.12
申请人 大阳日酸株式会社 发明人 森公哉;米仓正浩;太田英俊
分类号 F25D3/10(2006.01)I;C21D1/18(2006.01)I 主分类号 F25D3/10(2006.01)I
代理机构 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人 齐葵;周艳玲
主权项 一种深冷处理装置,其特征在于,具有:冷却槽,具有供被冷却物载置的被冷却物载置室和与所述被冷却物载置室连接的风扇收容室,并且由冷却槽主体和盖体构成,其中,所述冷却槽主体由底板和第一侧壁至第四侧壁构成;整流部件,以划分所述被冷却物载置室和所述风扇收容室的方式被配置在所述冷却槽内,并且具有用于将所述被冷却物载置室的气氛气体导入到所述风扇收容室中的吸入口和用于将所述风扇收容室的气氛气体导入到所述被冷却物载置室中的吹出口;搅拌风扇,以与所述吸入口相对的方式被收容在所述风扇收容室中,使供给到所述风扇收容室中的液态制冷剂为雾状或低温气体,并且搅拌所述冷却槽内的气氛气体;以及排气部件,从设置于所述冷却槽主体的贯通孔延伸至所述被冷却物载置室的内部,并且具有排气口,所述第一侧壁至第四侧壁以包围所述底板的外周缘的方式配置,并与所述盖板接触而形成所述冷却槽的内部空间,所述排气口被配置在所述内部空间中的、存在于所述被冷却物载置室的排气口配置空间中,在将所述底板的所述内部空间侧的表面与所述盖体的所述内部空间侧的表面正交的高度设为H的情况下,所述排气口配置空间为从所述盖体的内部空间侧的表面起的正交距离为H/2的部分的空间,所述排气口配置空间的宽度为与所述高度正交且与具有所述吸入口的所述整流部件平行的方向的宽度,所述排气口配置空间的宽度和与所述高度正交且与具有所述吸入口的所述整流部件平行的方向上的所述吸入口的宽度的最大值一致,所述排气口配置空间的所述宽度的中心与所述吸入口的所述宽度的中心一致。
地址 日本东京