发明名称 |
用于化学机械抛光电子、机械和光学器件用基底材料的含水抛光组合物和方法 |
摘要 |
本发明涉及一种含水抛光组合物,其包含:(A)当其分散在pH为3-9的含水介质中时带正电荷的磨料颗粒,这通过电泳淌度证明;(B)水溶性和水分散性的含羟基组分,其选自:(b1)脂族和脂环族羟基羧酸,其中羟基与羧酸基的摩尔比例为至少1;(b2)具有至少一个羟基的羟基羧酸(b1)的酯和内酯;和(b3)其混合物;以及(C)选自以下的水溶性和水分散性聚合物组分:(c1)线性和支化的氧化烯烃聚合物;(c2)线性和支化的脂族和脂环族聚(N-乙烯基酰胺)聚合物;和(c3)重均分子量小于100,000道尔顿的阳离子聚合絮凝剂;以及一种抛光电子、机械和光学器件用基底材料的方法。 |
申请公布号 |
CN103189457B |
申请公布日期 |
2015.12.09 |
申请号 |
CN201180053056.8 |
申请日期 |
2011.09.06 |
申请人 |
巴斯夫欧洲公司 |
发明人 |
Y·李;J-J·楚;S·S·文卡塔拉曼;S·A·奥斯曼 易卜拉欣;H·W·平德尔 |
分类号 |
C09G1/02(2006.01)I;C09G1/04(2006.01)I;C09G1/18(2006.01)I;C09K3/14(2006.01)I |
主分类号 |
C09G1/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 11247 |
代理人 |
刘金辉;林柏楠 |
主权项 |
一种含水抛光组合物,其包含:(A)至少一种类型的包含或由二氧化铈组成的磨料无机颗粒(A),当其分散在pH为3‑9的含水介质中时带正电荷,这通过电泳淌度证明;(B)至少一种水溶性和水分散性的含羟基组分,其选自:(b1)在分子上具有至少三个碳原子、至少两个羟基和至少一个羧酸基的脂族和脂环族羟基羧酸,其中羟基与羧酸基的摩尔比例为至少2;(b2)具有至少一个选自内酯基、酯化羟基、酯化羧酸基及其混合物的基团的羟基羧酸(b1)酯,其条件是至少两个羟基存在于(b2)中;和(b3)其混合物;以及(C)至少一种选自以下的水溶性和水分散性聚合物组分:(c1)线性和支化的氧化烯烃均聚物和共聚物;(c2)线性和支化的脂族和脂环族聚(N‑乙烯基酰胺)均聚物和共聚物;和(c3)重均分子量小于100,000道尔顿的阳离子聚合絮凝剂,其中所述含水抛光组合物具有2.5‑4的pH。 |
地址 |
德国路德维希港 |