发明名称 一种施加预应力抑制铜合金薄膜表面形成丘凸的方法
摘要 一种施加预应力抑制铜合金薄膜表面形成丘凸的方法,对铜合金薄膜施加预应力,然后在真空炉内或气氛保护炉内加热退火,以使薄膜内部应力接衡状态,从而抑制由于压应力释放驱动薄膜原子扩散导致的丘凸生成。本发明通过对柔性基体上铜合金薄膜施加预应力并进行退火处理调控铜合金薄膜的原子扩散行为,有效抑制了传统退火过程中铜合金薄膜表面易于形成丘凸的现象,为获得高稳定性、高寿命柔性聚酰亚胺基体铜合金薄膜器件提供了技术支撑。本发明施加预应力的大小可以根据需要通过调整模具进行调控,能有效抑制退火过程中铜合金薄膜表面易于形成丘凸的现象。
申请公布号 CN105140141A 申请公布日期 2015.12.09
申请号 CN201510444950.8 申请日期 2015.07.27
申请人 河南科技大学 发明人 孙浩亮;魏明;王广欣;宋忠孝;游龙;马飞;谢敬佩;刘舒
分类号 H01L21/60(2006.01)I 主分类号 H01L21/60(2006.01)I
代理机构 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 代理人 罗民健
主权项 一种施加预应力抑制铜合金薄膜表面形成丘凸的方法,其特征在于:将柔性基体和其上的具有残余压应力的铜合金薄膜以膜面朝上的方式固定在向下凹陷的凹模上,并使铜合金薄膜的中部处于凹陷状态,从而对铜合金薄膜施加预应力,然后在真空炉内或气氛保护炉内加热退火,退火温度为200℃‑300℃,退火时间30‑100min,以使薄膜内部应力接近平衡状态,从而抑制由于压应力释放驱动薄膜原子扩散导致的丘凸生成。
地址 471000 河南省洛阳市涧西区西苑路48号