| 发明名称 | 瓦斯立井壁后环空底端封堵施工工艺 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种瓦斯立井壁后环空底端封堵施工工艺，包括如下步骤：(1)瓦斯立井挖掘；(2)瓦斯管下放；(3)用封堵盘封堵瓦斯立井井壁与瓦间的环形空间的底端；(4)向位于步骤(3)中封堵盘上方的环形空间注浆。本发明有效解决了瓦斯立井井壁与瓦斯管管壁之间环形空间底端封堵的难题，有利于对瓦斯立井井壁与瓦斯管管壁之间环形空间进行充填施工，从而有利于扩大反井钻机的使用范围。 | ||
| 申请公布号 | CN105134125A | 申请公布日期 | 2015.12.09 |
| 申请号 | CN201510532784.7 | 申请日期 | 2015.08.26 |
| 申请人 | 北京中煤矿山工程有限公司;重庆松藻煤电有限责任公司 | 发明人 | 汪船;姜浩亮;许刚;唐健;荆国业;李英全;张广宇;徐广龙;程守业;李恩涛;李丙乾;周兴;谭昊;韩云龙;赵燕铃 |
| 分类号 | E21B33/12(2006.01)I;E21B33/13(2006.01)I;E21B7/00(2006.01)I;E21F7/00(2006.01)I | 主分类号 | E21B33/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京权泰知识产权代理事务所(普通合伙) 11460 | 代理人 | 王道川 |
| 主权项 | 瓦斯立井壁后环空底端封堵施工工艺，其特征在于，包括如下步骤：(1)瓦斯立井(14)挖掘；(2)瓦斯管(4)下放；(3)用封堵盘(7)封堵瓦斯立井(14)井壁与瓦斯管(4)之间的环形空间的底端；(4)向位于步骤(3)中封堵盘(7)上方的环形空间注浆。 | ||
| 地址 | 100013 北京市朝阳区和平里青年沟路5号 | ||