描绘装置、曝光描绘装置、记录有程序的记录介质以及描绘方法

摘要

一种描绘装置。该描绘装置具备：取得部，取得表示作为在被曝光基板上设置的多个基准标记的设计上的位置的第一位置的坐标数据、表示在以所述第一位置作为基准而确定的所述被曝光基板上描绘的描绘图案的坐标数据以及表示作为所述多个基准标记各自的实际的位置的第二位置的坐标数据；导出部，根据所述第一位置以及所述第二位置来导出表示所述被曝光基板的歪斜的大小的物理量，并且针对所述多个基准标记的每个，导出针对所述第一位置以及所述第二位置的偏移的校正量；降低部，从由所述导出部导出的各个校正量中，降低所述物理量越大则越多的量；以及校正部，在以所述第二位置作为基准在所述被曝光基板上描绘所述描绘图案的情况下，根据由所述降低部降低的校正量来校正表示所述描绘图案的坐标数据。

主权项

一种描绘装置，具备：取得部，取得表示在被曝光基板上设置的多个基准标记的设计上的位置即第一位置的坐标数据、表示以所述第一位置作为基准而确定的在所述被曝光基板上描绘的描绘图案的坐标数据以及表示所述多个基准标记各自的实际的位置即第二位置的坐标数据；导出部，根据所述第一位置以及所述第二位置来导出表示所述被曝光基板的歪斜的大小的物理量，并且针对所述多个基准标记的每个，导出针对所述第一位置以及所述第二位置的偏移的校正量；降低部，从由所述导出部导出的各个校正量中，在所述物理量越大时降低越多的量；以及校正部，在以所述第二位置作为基准在所述被曝光基板上描绘所述描绘图案的情况下，根据由所述降低部降低后的校正量来校正表示所述描绘图案的坐标数据。