发明名称 阵列基板及其制作方法、显示装置
摘要 本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,该阵列基板包括:像素电极图形和公共电极图形;所述像素电极图形包括多个条状的像素电极;所述公共电极图形包括多个条状的公共电极;每两个相邻像素电极中有一个像素电极在基底上的投影位于相邻两个公共电极之间,另一个像素电极在基底上的投影位于公共电极在基底上的投影内。本发明提供的阵列基板与现有技术中的阵列基板相比,能够降低像素电极和公共电极之间的交叠区域的面积,从而降低相应的交叠电容,降低充电难度。
申请公布号 CN105137681A 申请公布日期 2015.12.09
申请号 CN201510690739.4 申请日期 2015.10.22
申请人 重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 发明人 栗鹏;朴正淏;金熙哲
分类号 G02F1/1343(2006.01)I 主分类号 G02F1/1343(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 李相雨
主权项 一种阵列基板,其特征在于,包括:基底以及形成在所述基底上方的像素电极图形和公共电极图形;所述像素电极图形和所述公共电极图形位于不同层;所述像素电极图形包括多个条状的像素电极;所述公共电极图形包括多个条状的公共电极;每两个相邻像素电极中有一个像素电极在基底上的投影位于相邻两个公共电极之间,另一个像素电极在基底上的投影位于公共电极在基底上的投影内。
地址 400714 重庆市北碚区水土高新技术产业园云汉大道5号附12号
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