| 发明名称 | 抗蚀剂下层膜形成用组合物 | ||
| 摘要 | 本发明的课题是提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种包含聚合物和溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述聚合物具有由下述式(1)表示的结构单元，<img file="DDA0000820668460000011.GIF" wi="1149" he="510" />式(1)中，X<sup>1</sup>表示具有至少1个可以被卤代基、硝基、氨基或羟基取代的芳香环的碳原子数6～20的二价有机基，X<sup>2</sup>表示具有至少1个可以被卤代基、硝基、氨基或羟基取代的芳香环的碳原子数6～20的有机基或甲氧基。 | ||
| 申请公布号 | CN105143979A | 申请公布日期 | 2015.12.09 |
| 申请号 | CN201480021117.6 | 申请日期 | 2014.04.01 |
| 申请人 | 日产化学工业株式会社 | 发明人 | 桥本圭祐;西卷裕和;新城彻也;染谷安信;柄泽凉;坂本力丸 |
| 分类号 | G03F7/11(2006.01)I;C08G61/02(2006.01)I;C08L65/00(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/11(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 黄媛;段承恩 |
| 主权项 | 一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，包含聚合物和溶剂，所述聚合物具有由下述式(1)表示的结构单元，<img file="FDA0000820668440000011.GIF" wi="1123" he="499" />式(1)中，X<sup>1</sup>表示具有至少1个可以被卤代基、硝基、氨基或羟基取代的芳香环的碳原子数6～20的二价有机基，X<sup>2</sup>表示具有至少1个可以被卤代基、硝基、氨基或羟基取代的芳香环的碳原子数6～20的有机基、或甲氧基。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||