パッシベーション層形成用組成物、パッシベーション層付半導体基板及びその製造方法、太陽電池素子及びその製造方法、並びに太陽電池

摘要

本発明のパッシベーション層形成用組成物は、下記一般式（Ｉ）で表される有機アルミニウム化合物と、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド及びシリコンアルコキシドからなる群より選ばれる少なくとも１種のアルコキシド化合物と、を含む。下記一般式（Ｉ）中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素数１〜８のアルキル基を表す；ｎは０〜３の整数を表す；Ｘ２及びＸ３はそれぞれ独立して酸素原子又はメチレン基を表す；Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表す。