一种提高日本矮生沿阶草种子发芽率的方法

摘要

本发明公开了一种提高日本矮生沿阶草种子发芽率的方法，该方法是通过先对日本矮生沿阶草种子进行低温层积处理，然后用H₂O₂溶液或K₂MnO₄溶液中浸泡，再在赤霉素溶液中浸泡，然后将处理后的种胚在25℃恒温培养箱中14h/d光照下培养10～15天。利用H₂O₂溶液、K₂MnO₄溶液、赤霉素溶液对日本矮生沿阶草种子浸种处理，将日本矮生沿阶草种子的发芽率提高到80％～98％。

主权项

一种提高日本矮生沿阶草种子发芽率的方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：(1)对日本矮生沿阶草种子进行低温层积处理；(2)取出日本矮生沿阶草种子，去除种皮得到种胚，将种胚洗净，再晒干；(3)将种胚置于体积分数为1％～5％H₂O₂溶液或质量分数为0.2％～0.3％K₂MnO₄溶液中浸泡6～8h，再于150～200mg/L的赤霉素溶液中浸泡10～12h；(4)将步骤(3)处理过的种胚置于培养皿的基质上，并放置在25℃恒温培养箱中，在14h/d光照下培养，培养过程中保持基质湿润。