发明名称 丁二烯法合成己二腈中抑制零价镍降解的方法
摘要 本发明公开了一种丁二烯法合成己二腈中抑制零价镍降解的方法,是在一次氢氰化、异构化和二次氢氰化任一步或多步反应中加入还原剂来抑制零价镍的降解,该方法简便易行,所述零价镍在一次氢氰化、异构化、二次氢氰化反应中可分别回收套用30次、20次和10次,在此过程中零价镍基本不降解,反应转化率和选择性基本保持不变,相比不加入还原剂,大大延长了零价镍的使用寿命,极大程度的降低了丁二烯法合成己二腈中零价镍的单耗。
申请公布号 CN105130845A 申请公布日期 2015.12.09
申请号 CN201510425699.0 申请日期 2015.07.20
申请人 重庆中平紫光科技发展有限公司 发明人 孙洪飞;韩伟;杜彩霞;黄常勇;庞金强;颜英杰;李世民;龙晓钦
分类号 C07C255/04(2006.01)I;C07C253/10(2006.01)I;B01J33/00(2006.01)I 主分类号 C07C255/04(2006.01)I
代理机构 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人 武君
主权项 丁二烯法合成己二腈中抑制零价镍降解的方法,其特征在于:在一次氢氰化、异构化和二次氢氰化任一步或多步反应中通过加入还原剂来抑制零价镍的降解。
地址 408200 重庆市丰都县镇江精细化工园区