一种NF3管路结构

摘要

本实用新型公开了一种NF₃管路结构，包括气体柜、清扫管路、工艺管路、远程等离子体系统及工艺反应腔体，所述气体柜中设置有清扫NF₃气源和工艺NF₃气源，所述清扫管路一端连通清扫NF₃气源、另一端依次连通远程等离子体系统和工艺反应腔体，所述工艺管路一端连通工艺NF₃气源、另一端连通工艺反应腔体。本实用新型采用的工艺管路没有经过远程等离子体系统，而是直接和工艺反应腔体连接，进入工艺反应腔体后，工艺NF₃不会带有远程等离子体系统中的颗粒等附着物，在硅片成膜的过程中，避免附着物对硅片的不利影响，保证了硅片的良率，提高了工艺的效率，减少了颗粒引入源。

主权项

一种NF₃管路结构，包括气体柜、清扫管路、工艺管路、远程等离子体系统及工艺反应腔体，其特征在于，所述气体柜中设置有清扫NF₃气源和工艺NF₃气源，所述清扫管路一端连通清扫NF₃气源、另一端依次连通远程等离子体系统和工艺反应腔体，所述工艺管路一端连通工艺NF₃气源、另一端连通工艺反应腔体。