SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND NON-TRANSITORY COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM

摘要

본 발명은 버퍼 공간을 이용한 매엽 장치에서도 버퍼 공간의 부생성물 발생을 억제한다.상기 과제를 해결하기 위해서 처리실에 기판을 반입하는 공정; 상기 처리실 내에 재치된 상기 기판에 샤워 헤드의 상면에 설치되는 가스 도입구 및 상기 샤워 헤드의 버퍼실을 개재하여 제1 원소 함유 가스를 공급하는 제1 원소 함유 가스 공급 공정; 상기 기판에 상기 가스 도입구 및 상기 버퍼실을 개재하여 제2 원소 함유 가스를 공급하는 제2 원소 함유 가스 공급 공정; 및 상기 제1 원소 함유 가스 공급 공정과 상기 제2 원소 함유 가스 공급 공정 사이에 수행되는 배기 공정;을 포함하고, 상기 배기 공정은 상기 버퍼실 내의 분위기를 배기하는 버퍼실 배기 공정과, 상기 버퍼실 배기 공정 후에 상기 처리실 내의 분위기를 배기하는 처리실 배기 공정을 구비하는 반도체 장치의 제조 방법을 제공한다.