| 发明名称 | 印迹光子聚合物及其制备方法和应用 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种含有分子印迹光子聚合物(MIPP)的大孔基体，以及该大孔基体的制造方法。所述大孔基体可以例如用于检测样品中的如金属离子等小分子。 | ||
| 申请公布号 | CN103842390B | 申请公布日期 | 2015.12.09 |
| 申请号 | CN201180074004.9 | 申请日期 | 2011.11.02 |
| 申请人 | 英派尔科技开发有限公司 | 发明人 | 胡晓斌 |
| 分类号 | C08F2/48(2006.01)I;C08J9/26(2006.01)I;G02B5/00(2006.01)I;G01N21/25(2006.01)I;G01N33/00(2006.01)I | 主分类号 | C08F2/48(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 庞东成;解延雷 |
| 主权项 | 一种大孔基体，所述大孔基体用于检测样品中的金属离子，其中，所述基体包含分子印迹光子聚合物(MIPP)，其中，所述MIPP包含至少一个针对所述金属离子的特异性结合空腔，其中，所述MIPP包含聚乙二醇聚合物、壳聚糖‑聚乙二醇共聚物、乙烯基聚合物或其组合。 | ||
| 地址 | 美国特拉华州 | ||