发明名称 |
流动层系统和流动层炉的运行方法 |
摘要 |
一种流动层系统,具备:喷嘴群(144)(第1喷嘴群),其设置于流动层炉(130)内;辅助喷嘴群(154)(第2喷嘴群),其设置于流动层炉内;第1供应部(160),其通过第1喷嘴群向流动层炉内供应气体;第2供应部(180),其通过第1喷嘴群和第2喷嘴群双方向流动层炉内供应气体;控制部(190),其在启动运行时,控制第2供应部并向流动层炉内供应气体,从而在流动层炉内形成流动介质的流动层,在常规运行时,停止第2供应部导致的气体的供应并且控制第1供应部,向流动层炉内供应气体,从而在流动层炉内形成流动介质的流动层。 |
申请公布号 |
CN105143805A |
申请公布日期 |
2015.12.09 |
申请号 |
CN201480022322.4 |
申请日期 |
2014.04.21 |
申请人 |
株式会社IHI |
发明人 |
舩越弘 |
分类号 |
F27B15/10(2006.01)I;C10J3/54(2006.01)I;F23C10/20(2006.01)I;F23C10/28(2006.01)I;F27B15/18(2006.01)I |
主分类号 |
F27B15/10(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
刘林华;李婷 |
主权项 |
一种流动层系统,具备:流动层炉,其容纳流动介质;第1喷嘴群,其设置于所述流动层炉内,由具有用于供应气体的孔的一个或多个喷嘴构成;第2喷嘴群,其为与所述第1喷嘴群不同的喷嘴群,设置于所述流动层炉内,由具有用于供应气体的孔的一个或多个喷嘴构成;第1供应部,其通过所述第1喷嘴群和第2喷嘴群中的任一方,向所述流动层炉内供应气体;第2供应部,其通过所述第1喷嘴群和第2喷嘴群双方,向所述流动层炉内供应气体;控制部,其在启动运行时,控制所述第2供应部并向所述流动层炉内供应气体,从而在所述流动层炉内形成流动介质的流动层,在常规运行时,停止所述第2供应部导致的气体的供应并且控制所述第1供应部,向所述流动层炉内供应气体,从而在所述流动层炉内形成流动介质的流动层。 |
地址 |
日本东京都 |