发明名称 |
一种晶体硅异质结太阳能电池的制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种晶体硅异质结太阳能电池的制备方法,包括如下步骤:(1)清洗、腐蚀制绒;(2)将硅片的正面和背面分别进行Si离子注入,在正反两面上分别形成一层非晶硅薄膜;(3)将硅片正面的非晶硅薄膜进行两次B离子注入;(4)将硅片背面的非晶硅薄膜进行B离子注入;(5)将硅片背面的非晶硅薄膜进行P离子注入;(6)热激活处理;(7)在硅片的正反两面设置透明导电薄膜层;(8)丝网印刷、烧结在硅片表面制备金属电极。本发明获得了高质量的晶体硅异质结太阳能电池,形成了高质量的非晶硅薄膜层和极少缺陷的一体化的晶硅、非晶硅异质结叠加界面,提高了钝化效果并有效地降低了漏电流。 |
申请公布号 |
CN103247720B |
申请公布日期 |
2015.12.09 |
申请号 |
CN201310171277.6 |
申请日期 |
2013.05.10 |
申请人 |
苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 |
发明人 |
熊光涌;王栩生;章灵军 |
分类号 |
H01L31/18(2006.01)I;H01L31/20(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
代理机构 |
苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 |
代理人 |
陶海锋;陆金星 |
主权项 |
一种晶体硅异质结太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1) 将N型单晶硅硅片进行表面化学清洗、腐蚀制绒;(2) 将上述硅片的正面和背面分别进行Si离子注入,在正反两面上分别形成一层非晶硅薄膜;(3) 将上述硅片正面的非晶硅薄膜进行两次B离子注入;对硅片正面的非晶硅薄膜的底层进行第一次B离子注入,形成本征非晶硅薄膜层;再进行第二次B离子注入,在非晶硅薄膜的表层形成P型非晶硅薄膜层;至此在上述硅片的正面形成了<b>P/i/N</b>结构的异质结;(4) 将上述硅片背面的非晶硅薄膜进行B离子注入;在非晶硅薄膜的底层形成本征非晶硅薄膜层;(5) 将上述硅片背面的非晶硅薄膜进行P离子注入;在非晶硅薄膜的表层形成N+型非晶硅层;至此在上述硅片的背面形成了<b>N/i/N+</b>结构的异质结;(6) 将上述掺杂的非晶硅薄膜进行热激活处理;(7) 在上述硅片的正反两面设置透明导电薄膜层;(8) 丝网印刷、烧结在硅片表面制备金属电极,即可得到晶体硅异质结太阳能电池。 |
地址 |
215129 江苏省苏州市苏州高新区鹿山路199号 |