发明名称 一种低温亚光反应釉及其制作方法
摘要 本发明公开了一种低温亚光反应釉及其制作方法,由以下原料按照重量份配比组成:熔块15~25份,钾长石15~30份,石英0~8份,方解石25~40份,煅烧氧化锌12~25份,钛白粉15~25份,贵州土3~6份,硅酸锆5~12份,色剂0~30份。本发明提供的低温亚光反应釉及其制作方法主要通过方解石,钛白粉达到低温亚反应效果,再以硅酸锆加以稳定,保证了本发明的效果,即低温氧化焰亚光反应釉(窑变釉)效果。由此制得的低温氧化焰烧成的单层反应釉(窑变釉)炻瓷产品能适合目前大生产条件,能稳定生产,同时热稳定性、铅镉溶出、釉面硬度等理化性能达到国家相关日用炻瓷标准。
申请公布号 CN105130193A 申请公布日期 2015.12.09
申请号 CN201510413907.5 申请日期 2015.07.14
申请人 湖南华联瓷业股份有限公司 发明人 叶建明;张亮
分类号 C03C8/20(2006.01)I;C04B41/86(2006.01)I 主分类号 C03C8/20(2006.01)I
代理机构 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 代理人 王安娜;李翔
主权项 一种低温亚光反应釉,其特征在于,所述反应釉由以下原料按照重量份配比组成:<img file="FDA0000759579260000011.GIF" wi="755" he="838" />
地址 412200 湖南省株洲市醴陵市西山办事处万宜路3号