发明名称 阵列基板及其制造方法、显示装置
摘要 本发明提供了一种阵列基板,该阵列基板包括基板、依次形成在所述基板上的缓冲层、半导体层、栅绝缘层、栅金属层、源漏金属层、平坦层、间绝缘层、公共电极层、钝化层以及像素电极层,其特征在于,该阵列基板还包括形成于该公共电极层公共信号调节结构,该公共信号调节结构与该公共电极层一并作为公共电极传输公共信号,以降低公共信号传输过程中的阻抗。本发明还提供一种上述的阵列基板及其制造方法、显示装置。本发明所述的阵列基板及其制造方法、显示装置通过公共信号调节结构与现有的公共电极层一并传输公共信号,可有效地降低公共信号传输过程中的阻抗,且使得的公共信号分布不均匀。
申请公布号 CN105140244A 申请公布日期 2015.12.09
申请号 CN201510623616.9 申请日期 2015.09.25
申请人 武汉华星光电技术有限公司 发明人 马月
分类号 H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I 主分类号 H01L27/12(2006.01)I
代理机构 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人 郝传鑫;熊永强
主权项 一种阵列基板,该阵列基板包括基板、依次形成在所述基板上的缓冲层、半导体层、栅绝缘层、栅金属层、源漏金属层、平坦层、间绝缘层、公共电极层、钝化层以及像素电极层,其特征在于,该阵列基板还包括形成于该公共电极层公共信号调节结构,该公共信号调节结构与该公共电极层一并作为公共电极传输公共信号,以降低公共信号传输过程中的阻抗。
地址 430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
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