发明名称 一类含芴结构的双支化光敏化合物、制备方法及其应用
摘要 本发明涉及一类含芴结构的双支化光敏化合物、制备方法及其光引发聚合应用。所述光敏化合物为含芴结构的双支化取代苯乙烯型光敏化合物,其中:R<sub>1</sub>为氢、甲基、乙基、丙基、丁基、己基、辛基、壬基和十二烷基;R<sub>2</sub>为甲基、乙基、丙基、丁基、己基、辛基、壬基和十二烷基;R<sub>3</sub>为甲基、苄基、五氟代苄基、4-氰基苄基、4-硝基苄基、4-三氟甲基苄基和3,5-二-(三氟甲基)苄基。本发明的光敏化合物适用于诸如313nm,365nm、385nm、405nm,425nm的紫外区到近可见光区激发。此类光敏化合物合成步骤简单,易于提纯,产率高,在300nm~425nm区域内,体现出30000~90000 M<sup>-1</sup> cm<sup>-1</sup>的摩尔消光系数,光吸收性能极佳。它们可单独作为引发剂或作为增敏剂与常见商用引发剂组合形成高效的光敏引发聚合体系,聚合效率很高。
申请公布号 CN105130860A 申请公布日期 2015.12.09
申请号 CN201510480605.X 申请日期 2015.08.09
申请人 同济大学 发明人 金明;方冰清;武星宇;万德成
分类号 C07C323/56(2006.01)I;C07C319/20(2006.01)I;C08F2/50(2006.01)I;C08F222/14(2006.01)I 主分类号 C07C323/56(2006.01)I
代理机构 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人 张磊
主权项 一类含芴结构的双支化光敏化合物,其特征在于所述光敏化合物为如下I或II式中任一种:<img file="965507dest_path_image001.GIF" wi="571" he="250" />其中:R<sub>1</sub>为氢或者甲基或者不同碳原子个数的柔性链;R<sub>2</sub>为甲基或者不同碳原子个数的柔性链;R<sub>3</sub>为甲基、苄基、五氟代苄基、4‑氰基苄基、4‑硝基苄基、4‑三氟甲基苄基或3,5‑二‑(三氟甲基)苄基中任一种。
地址 200092 上海市杨浦区四平路1239号