发明名称 A FEED-THROUGH APPARATUS FOR A CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION DEVICE
摘要 화학 기상 증착 디바이스용 피드스루 장치가 개시된다. 피드스루 장치는 i) 피드스루 메인 본체, ii) 복수의 러너 유닛, 및 iii) 복수의 러너 유닛에 대해 회전 가능한 피드스루 디바이스를 포함한다. 러너 유닛은 피드스루 메인 본체 내에 제공되고, 각각의 러너 유닛은 유체를 수용하기 위한 유체 입구와, 유체 입구로부터 유체를 수용하기 위해 유체 입구와 유체 소통하는 세장형 러너를 포함하고, 세장형 러너는 러너 유닛의 표면 상에 나선형으로 연장한다. 피드스루 디바이스는 복수의 피드스루 디바이스 유체 채널을 포함하고, 이 피드스루 디바이스 유체 채널은 대응 세장형 러너로부터 유체를 수용하기 위한 피드스루 디바이스 유체 이송 오리피스 및 반응기 챔버 내로 유체를 방출하기 위한 피드스루 디바이스 유체 출구 오리피스를 포함한다. 특히, 각각의 피드스루 디바이스 유체 이송 오리피스는 대응 세장형 러너로부터 유체를 수용하기 위해 피드스루 디바이스의 회전 중에 대응 세장형 러너와 유체 소통하고, 각각의 피드스루 디바이스 유체 출구 오리피스는 반응기 챔버 내로 유체를 방출하기 위해 제공된다.
申请公布号 KR101575663(B1) 申请公布日期 2015.12.08
申请号 KR20130066988 申请日期 2013.06.12
申请人 에이에스엠 테크놀러지 싱가포르 피티이 엘티디 发明人 리 질란;쿠아 텡 호크;팔라니아팬 치담바람;라가벤드라 라빈드라
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
地址