发明名称 |
METHOD FOR TREATING INNER WALL SURFACE OF MICRO-VACANCY |
摘要 |
피처리 기재에 설치한 홀이 예를 들어 가늘고 깊은 홀이라도, 에칭과 세정을 확실하게 행할 수 있는 홀 내벽면 처리방법을 제공한다. 처리액(106)이 부여되는 표면과 이 표면에 개구(110)를 갖는 마이크로 공실(104)을 내부에 갖고, 마이크로 공실(104)의 애스펙트비(l/r)가 5 이상이거나 또는 애스펙트비가 5 미만이고 또한 V/S(V: 마이크로 공실의 용적, S: 개구의 면적)가 3 이상인 기재(100)가 설치되어 있는 감압가능한 처리 공간을 감압하고, 이어서, 이 감압되어 있는 처리 공간에 처리액(106)을 도입해서 마이크로 공실(104)의 내벽면을 처리한다. |
申请公布号 |
KR20150136499(A) |
申请公布日期 |
2015.12.07 |
申请号 |
KR20157030067 |
申请日期 |
2013.04.18 |
申请人 |
TOHOKU UNIVERSITY;STELLA CHEMIFA CORPORATION |
发明人 |
SAKAI TAKESHI;YOSHIDA TATSURO;HIRATSUKA RYOSUKE;ISHIKAWA SYUN;OHMI TADAHIRO;HASEBE RUI;TAKANO JUN;KIKUYAMA HIROHISA;YAMAMOTO MASASHI |
分类号 |
H01L21/02;H01L21/67;H01L21/768 |
主分类号 |
H01L21/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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