发明名称 |
HYDROFLUOROOLEFIN ETCHING GAS MIXTURES |
摘要 |
본 발명은 CVD 챔버에서 표면 증착물을 제거하는데 유용한 하이드로플루오르올레핀 조성물에 관한 것이며, 가스 혼합물이 하이드로플루오르올레핀을 포함하는, 챔버 내 또는 원격 챔버 내에서 가스 혼합물을 활성화시킴으로써 생성된 활성화된 가스 혼합물을 이용하여 화학 기상 증착 챔버의 내부로부터 표면 증착물을 제거하는 방법에 관한 것이다. |
申请公布号 |
KR20150136103(A) |
申请公布日期 |
2015.12.04 |
申请号 |
KR20157030590 |
申请日期 |
2014.03.28 |
申请人 |
THE CHEMOURS COMPANY FC, LLC |
发明人 |
LOH GARY;NAPPA MARIO JOSEPH;LEE TAI CHEN;LEE HAO CHUN |
分类号 |
C23C16/44;H01J37/32 |
主分类号 |
C23C16/44 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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