发明名称 HYDROFLUOROOLEFIN ETCHING GAS MIXTURES
摘要 본 발명은 CVD 챔버에서 표면 증착물을 제거하는데 유용한 하이드로플루오르올레핀 조성물에 관한 것이며, 가스 혼합물이 하이드로플루오르올레핀을 포함하는, 챔버 내 또는 원격 챔버 내에서 가스 혼합물을 활성화시킴으로써 생성된 활성화된 가스 혼합물을 이용하여 화학 기상 증착 챔버의 내부로부터 표면 증착물을 제거하는 방법에 관한 것이다.
申请公布号 KR20150136103(A) 申请公布日期 2015.12.04
申请号 KR20157030590 申请日期 2014.03.28
申请人 THE CHEMOURS COMPANY FC, LLC 发明人 LOH GARY;NAPPA MARIO JOSEPH;LEE TAI CHEN;LEE HAO CHUN
分类号 C23C16/44;H01J37/32 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
地址