发明名称 Photoresist composition and manufacturing method of thin film transistor array panel using the same
摘要 <p>포토 레지스트 조성물 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 실시예에 따른 포토 레지스트 조성물은 불포화 카르복실산, 불포화 카르복실산 무수물 및 이들의 혼합물 중 어느 하나와 이와 다른 불포화 단량체 화합물을 공중합시켜 형성되는 알칼리 가용성 아크릴 공중합체, 메타크레졸과 파라크레졸로 이루어진 노볼락 수지, 경화제, 아크리딘 화합물 그리고 광산 발생제를 포함한다.</p>
申请公布号 KR101574110(B1) 申请公布日期 2015.12.04
申请号 KR20090013894 申请日期 2009.02.19
申请人 삼성디스플레이 주식회사;에이지이엠코리아 주식회사 发明人 이영범;박정인;강덕만;이희국;공향식;오세태;이창익
分类号 G03F7/027 主分类号 G03F7/027
代理机构 代理人
主权项
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