METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND NON-TRANSITORY COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM

摘要

본 발명은 뛰어난 에칭 내성을 가지는 저유전율의 박막을 형성한다.기판 상에 수분 및 염소를 포함하는 제1 불순물과 탄화수소 화합물을 포함하는 제2 불순물을 포함하는 박막을 형성하는 공정; 상기 박막을 형성하는 공정에서의 상기 기판의 온도보다 높은 제1 온도로 상기 박막을 열처리하는 것에 의해 상기 박막으로부터 상기 수분 및 상기 염소를 포함하는 상기 제1 불순물을 제거하는 공정; 및 상기 제1 온도 이상의 제2 온도로 상기 박막을 열처리하는 것에 의해 상기 제1 온도로 열처리한 후의 상기 박막으로부터 상기 탄화수소 화합물을 포함하는 상기 제2 불순물을 제거하는 공정;을 포함한다.