发明名称 高深宽比X射线标靶及其用途
摘要 公开了高深宽比X射线标靶及其用途。X射线标靶、使用所述X射线标靶的方法以及具有用于执行使用所述X射线标靶的方法的指令的计算机程序产品。所述X射线标靶包括由软X射线产生材料制成的衬底以及由硬X射线产生材料制成的高深宽比结构。所述硬X射线产生材料被嵌入在所述衬底中、形成在所述衬底上、被从所述衬底边缘向外悬臂伸出,或者为其任意组合。所述高深宽比结构包括多个布置在一个或多个网格或阵列中的高深宽比结构,并且所述一个或多个网格或阵列之一中的所述高深宽比结构被布置以形成Hadamard矩阵结构。
申请公布号 CN105105779A 申请公布日期 2015.12.02
申请号 CN201510398704.3 申请日期 2015.04.17
申请人 FEI公司 发明人 N·W·帕克;M·W·乌特劳特;L·F·T·夸曼;T·G·米勒
分类号 A61B6/03(2006.01)I 主分类号 A61B6/03(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 张涛;刘春元
主权项 一种X射线标靶,包括:由软X射线产生材料制成的衬底;以及由硬X射线产生材料制成的高深宽比结构,所述硬X射线产生材料被嵌入所述衬底中、形成于所述衬底上、被从所述衬底的边缘向外悬臂伸出,或者为其任意组合,其中所述高深宽比结构包括被布置在一个或多个网格或阵列中的多个高深宽比结构,并且所述一个或多个网格或阵列之一中的所述高深宽比结构被布置以形成Hadamard矩阵结构。
地址 美国俄勒冈州