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发明名称
略H形状の伸縮性領域を備えたカツラベース
摘要
【課題】従来のカツラベースには見られない新たな構成により、高いフィット感を得ることのできるカツラベースを提供する。【解決手段】カツラベースの一部に略H形状の伸縮性領域10を設ける。略H形状とは、土台となる領域と、そこから外方へ延在する4つの突出部とを含む形状を意味している。伸縮性領域がそのような形状を有するが故に、着用状態においてカツラベースに作用する前後、左右、斜めのあらゆる方向に作用する外力を有効に吸収して、高いフィット感を実現することができる。【選択図】図1
申请公布号
JP5828022(B1)
申请公布日期
2015.12.02
申请号
JP20140162967
申请日期
2014.08.08
申请人
株式会社アデランス
发明人
江刺家 俊也
分类号
A41G3/00
主分类号
A41G3/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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