| 摘要 |
<p>본 발명은 다수개의 기판을 공정 챔버 내에 동시에 로딩한 상태에서 각 기판 사이에 층상 흐름을 형성하여 연속적으로 원자층 증착공정을 수행하되, 공정 수행 중에 공정 기체들이 혼합되지 않고, 분리되어 독립적으로 공급되어 유지 보수 수요가 절감되는 원자층 증착장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 원자층 증착장치는, 복수의 기판을 각 기판 사이의 간격이 층상 흐름 간격이 되도록 일정하게 적재하는 카세트; 상기 카세트를, 챔버 내측벽과의 간격이 상기 층상 흐름 간격이 되도록 수납하고, 상기 기판 상에 원자층 증착공정을 수행하는 공정챔버; 상기 공정 챔버의 전측벽 내면에 일측면이 개방된 상태로 음각으로 형성되며, 상기 공정 챔버 내에 수납된 상기 카세트와 상기 공정 챔버의 전측벽 사이에 층상 흐름 간격을 형성하는 기체 공급홈; 상기 공정 챔버 내의 일 측벽에서 상기 카세트에 적재되어 있는 모든 기판에 대하여 상기 기판의 배열방향과 평행한 방향으로 상기 기체 공급홈에서 층상 흐름이 이루어지도록 기체를 공급하는 기체공급수단; 및 상기 공정 챔버 중 상기 기체 공급 수단의 반대 편에 설치되며, 기판의 후단부에서 상기 공정챔버 내부의 기체를 흡입하여 배기하는 배기수단;을 포함하며, 상기 기체공급수단은, 서로 다른 제1, 2공정 기체를 서로 분리된 경로로 확산시켜 상기 기체 공급홈으로 공급하는 것을 특징으로 한다.</p> |
