发明名称 |
一种CVD设备 |
摘要 |
本实用新型揭示了一种CVD设备,包括反应腔及与所述反应腔配合的盖体,以及气体发生器,所述气体发生器穿透所述盖体而与所述反应腔连通,所述气体发生器用于提供氧化性气体及原材料气体;其中,所述氧化性气体及所述原材料气体于盖体内表面处发生化学反应而形成覆盖所述盖体内表面的保护层。本实用新型通过控制氧化性气体及原材料气体的输入,可以使得氧化性气体及原材料气体于壳体内表面处发生化学反应而直接形成覆盖盖体内表面的保护层,如此,实现了保护层的快速成型,有效降低设备的安装导入使用/异常恢复的周期,提高设备的利用效率,节约能源,确保工业生产的竞争优势,同时,降低了原材料成本。 |
申请公布号 |
CN204825046U |
申请公布日期 |
2015.12.02 |
申请号 |
CN201520453853.0 |
申请日期 |
2015.06.29 |
申请人 |
聚灿光电科技股份有限公司 |
发明人 |
刘慰华;陈伟;张义颖;刘恒山 |
分类号 |
C23C16/448(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/448(2006.01)I |
代理机构 |
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 |
代理人 |
杨林洁 |
主权项 |
一种CVD设备,包括反应腔及与所述反应腔配合的盖体,其特征在于所述设备还包括:气体发生器,穿透所述盖体而与所述反应腔连通,所述气体发生器用于提供氧化性气体及原材料气体;其中,所述氧化性气体及所述原材料气体于盖体内表面处发生化学反应而形成覆盖所述盖体内表面的保护层。 |
地址 |
215123 江苏省苏州市工业园区新庆路8号 |