可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置

摘要

本实用新型公开了一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置，其包括有反应室，反应室外侧设置有电磁线圈；所述反应室外部设置有多个在水平方向上的置放端架，每一个置放端架的均沿反应室的侧端面成环形延伸，电磁线圈固定于其所对应的置放端架的上端面；多个置放端架之间通过在竖直方向上延伸的支撑杆件进行连接；所述反应室的外部设置有多个升降丝杆，其连接至设置在反应室上端面的升降电机，所述升降丝杆与置放端架彼此固定连接；采用上述技术方案的可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置，其可通过升降丝杆驱动电磁线圈升降，以使得批量处理的单晶硅的整体加工精度得以改善，并使得传感器整体的工艺效率得到提升。

主权项

一种可改善设备工作效率的传感器单晶硅刻蚀装置，其包括有反应室，反应室的上端部设置有送气管道，其连接至设置在反应室外部的气源室，反应室的下端部设置有抽气管道，其连接至设置在反应室外部的真空泵；所述反应室的轴线位置设置有片架，其连接至设置在反应室外部的片架旋转机构；所述反应室外侧设置有电磁线圈；其特征在于，所述反应室外部设置有多个在水平方向上的置放端架，每一个置放端架的均沿反应室的侧端面成环形延伸，所述置放端架与电磁线圈一一对应，每一个电磁线圈均固定于其所对应的置放端架的上端面；多个置放端架之间通过在竖直方向上延伸的支撑杆件进行连接；所述反应室的外部设置有多个升降丝杆，其连接至设置在反应室上端面的升降电机，所述升降丝杆与多个置放端架中，位于最高位置的置放端架彼此固定连接。