真空处理系统

摘要

一种真空处理系统，包括第一腔室、第二腔室以及位于两者之间的阀门结构，阀门结构包括：背板，设置有多个开口，多个开口沿平行背板的第一直线方向间隔排列，用于连通第一腔室和第二腔室；多个阀门单元，装配于背板第一面上，多个阀门单元与多个开口相对应，阀门单元包括固定部和移动部；固定部固定于背板，其包括一与背板上的开口相对应的通孔和围绕通孔的垂直于背板的第一密封面；移动部，包括与第一密封面相对应的第二密封面，用于与第一密封面相配合密封通孔；驱动机构，用于同时驱动多个阀门单元的移动部向相应的固定部移动，使得第一密封面与第二密封面相接触，从而密封通孔。本发明真空处理系统中的阀门结构可靠性较高、可承受双向压力。

主权项

一种真空处理系统，包括第一腔室、第二腔室以及位于所述第一腔室和第二腔室之间的阀门结构，其特征在于，所述阀门结构包括：背板，位于所述第一腔室和所述第二腔室之间，所述背板上设置有多个开口，所述多个开口沿平行所述背板的第一直线方向间隔排列，用于连通所述第一腔室和所述第二腔室；多个阀门单元，装配于背板的第一面上，所述多个阀门单元与所述多个开口相对应，所述阀门单元包括固定部和移动部；所述固定部固定于所述背板，其包括一与所述背板上的开口相对应的通孔和围绕所述通孔的第一密封面，所述第一密封面与所述背板垂直；所述移动部，包括与所述第一密封面相对应的第二密封面，用于与所述第一密封面相配合密封所述通孔；驱动机构，与所述多个阀门单元的移动部连接，用于同时驱动所述多个阀门单元的移动部向相应的固定部移动，使得所述第一密封面与所述第二密封面相接触，从而密封所述通孔。