发明名称 |
正型光刻胶清除液组合物 |
摘要 |
本发明提供了一种正型光刻胶清除液组合物,它包括:a)1-20重量份的N,N-二乙基羟胺;b)1-70重量份的二甘醇单烷基醚;c)1-5重量份的[式1]所示的化合物;d)通过如下单体i)-iii)自由基聚合得到的共聚物;<img file="DSA00000750265800011.GIF" wi="609" he="349" />[式1],其中R’为氢,或具有1至4个碳原子的烷基,i)30-70重量%N-乙烯基内酰胺,ii)15-35重量%乙酸乙烯酯,和iii)10-35重量%聚醚。本发明正型光刻胶清除液组合物不腐蚀基板、且能有效地除去光刻胶膜,因此具有很强的实用性。 |
申请公布号 |
CN103383529B |
申请公布日期 |
2015.12.02 |
申请号 |
CN201210247558.0 |
申请日期 |
2012.07.18 |
申请人 |
张峰 |
发明人 |
张峰 |
分类号 |
G03F7/42(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/42(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种正型光刻胶清除液组合物,其特征在于由a)1‑20重量份的N,N‑二乙基羟基胺、b)1‑70重量份的二甘醇单烷基醚、c)1‑5重量份的[式1]所示的化合物、d)通过如下单体i)‑iii)自由基聚合得到的共聚物组成;<img file="FSB0000140808300000011.GIF" wi="493" he="264" />[式1],其中R’为氢,或具有1至4个碳原子的烷基,i)30‑70重量%N‑乙烯基内酰胺,ii)15‑35重量%乙酸乙烯酯,和iii)10‑35重量%聚醚,聚醚是聚亚烷基二醇。 |
地址 |
315171 浙江省宁波市鄞州区集士港镇商贸路创业园区306室 |