发明名称 |
一种基板传送装置及基板清洗设备 |
摘要 |
本发明公开了一种基板传送装置及基板清洗设备。基板传送装置,包括多个双辊单元,每个所述双辊单元包括下辊和上辊,所述下辊为主动辊,包括辊体以及设置于辊体上的多个用于支撑基板的主动滚轮;所述上辊包括第一辊体和第二辊体,所述第一辊体和第二辊体分别设置于基板垂直于传送方向的两侧上方,且所述第一辊体和第二辊体上分别设置有至少一个用于向下方基板施压的从动滚轮。本发明技术方案的基板传送装置,通过主动滚轮的转动带动基板传送,基板的传送带动从动滚轮转动,当喷洗装置释放喷洗物清洗基板时,上辊不会受到强烈振动,从而可以有效减少基板在清洗过程中损坏的可能,进而减少宕机时间,提高生产效率和产品产量。 |
申请公布号 |
CN105116574A |
申请公布日期 |
2015.12.02 |
申请号 |
CN201510624905.0 |
申请日期 |
2015.09.25 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
发明人 |
王俊杰;龚磊;陈晨;陈国;关江兵;韩亚军 |
分类号 |
G02F1/13(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/13(2006.01)I |
代理机构 |
北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 |
代理人 |
黄志华 |
主权项 |
一种基板传送装置,其特征在于,包括多个双辊单元,每个所述双辊单元包括下辊和上辊,所述下辊为主动辊,包括辊体以及设置于辊体上的多个用于支撑基板的主动滚轮;所述上辊包括第一辊体和第二辊体,所述第一辊体和第二辊体分别设置于基板垂直于传送方向的两侧上方,且所述第一辊体和第二辊体上分别设置有至少一个用于向下方基板施压的从动滚轮。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |