| 发明名称 |
- C-SHAPED CONFINEMENT RING FOR A PLASMA PROCESSING CHAMBER |
| 摘要 |
<p>용량-결합형 플라즈마 처리 챔버의 컴포넌트로서 유용한 한정 링이 본 명세서에 기재된다. 한정 링의 내부 표면들은, 반도체 기판이 챔버 내에서 플라즈마 처리 동안 지지되는 하부 전극과 상부 전극 사이의 갭을 둘러싸는 연장된 플라즈마 한정 존을 제공한다.</p> |
| 申请公布号 |
KR200478935(Y1) |
申请公布日期 |
2015.12.02 |
| 申请号 |
KR20110005915U |
申请日期 |
2011.06.29 |
| 申请人 |
램 리써치 코포레이션 |
发明人 |
켈로그 마이클 씨;마라크타노프 알렉세이;딘드사 라진더 |
| 分类号 |
C23C16/50;H01L21/205;H05H1/34;H05H1/46 |
主分类号 |
C23C16/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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