一种磁流体薄膜的制作方法

摘要

本发明公开了一种磁流体薄膜的制作方法。该方法主要包括薄膜载玻片上磁流体填充槽的制作以及磁流体填充两部分。在磁流体填充槽制作时，利用氢氟酸、浓硫酸以及水的混合溶液来对载玻片进行腐蚀，根据腐蚀时间的不同得到不同深度的填充槽。然后在不同深度的填充槽内填充磁流体，并盖上盖玻片，最后用紫外光胶封装，最终得到可用于实验研究的厚度均匀且可以长时间保存的磁流体薄膜。

主权项

一种磁流体薄膜的制作方法，该方法主要包括磁流体填充槽2的腐蚀和磁流体填充两大部分，整个过程如下所述，首先将去离子水、浓硫酸以及氢氟酸配制成混合腐蚀溶液，将切割好的载玻片用石蜡或电工胶布包裹作为掩膜层，并在载玻片3其中一面的中心处刻出需要制作的磁流体填充槽2的形状后放入腐蚀溶液中腐蚀，一定时间后拿出载玻片3，剥去掩膜层后，放入超声波清洗机中清洗，随后将磁流体填充到腐蚀得到的磁流体填充槽2中，并用盖玻片1覆盖，最后用胶粘封盖玻片1与载玻片3的连接处，晾干后即可得到磁流体薄膜。