发明名称 使用镀制抗蚀剂对通孔结构进行同时且选择性的宽间隙分割
摘要 提供了一种多层印刷电路板,该多层印刷电路板具有第一介电层以及选择性地定位在该第一介电层中的第一镀制抗蚀剂。第二镀制抗蚀剂可以被选择性地定位在第一介电层或第二介电层中,第二镀制抗蚀剂与第一镀制抗蚀剂分离。贯通孔延伸穿过第一介电层、第一镀制抗蚀剂以及第二镀制抗蚀剂。除了沿着第一镀制抗蚀剂与第二镀制抗蚀剂之间的长度,贯通孔的内表面被镀制有导电材料。这形成了具有与第二通孔段电隔离的第一通孔段的分割的镀制贯通孔。
申请公布号 CN105122958A 申请公布日期 2015.12.02
申请号 CN201480021470.4 申请日期 2014.03.17
申请人 桑米纳公司 发明人 S·伊克塔尼;D·克斯滕
分类号 H05K3/46(2006.01)I;H05K3/42(2006.01)I 主分类号 H05K3/46(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 吕俊刚;刘久亮
主权项 一种多层印刷电路板,该多层印刷电路板包括:第一介电层;第一镀制抗蚀剂,所述第一镀制抗蚀剂被选择性地定位在所述第一介电层中;第二镀制抗蚀剂,所述第二镀制抗蚀剂被选择性地定位在所述第一介电层或者第二介电层中,所述第二镀制抗蚀剂与所述第一镀制抗蚀剂分离;以及贯通孔,所述贯通孔延伸穿过所述第一介电层、所述第一镀制抗蚀剂和所述第二镀制抗蚀剂,其中,除了沿着所述第一镀制抗蚀剂与所述第二镀制抗蚀剂之间的长度,所述贯通孔的内表面被镀制有导电材料,以形成具有与第二通孔段电隔离的第一通孔段的分割的镀制贯通孔。
地址 美国加利福尼亚州