| 发明名称 | 一种形成膜层的方法和基板 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种形成膜层的方法和基板，属于膜层制备技术领域，其可解决现有的形成膜层方法易出现膜层不良的问题。本发明的形成膜层的方法包括在基板上形成第一层膜；对所述第一层膜进行第一次清洗；在所述第一层膜上形成第二层膜，所述第二层膜的材料与第一层膜的材料相同；对所述第二层膜进行第二次清洗。本发明的基板包括由上述形成膜层的方法制得的膜层。本发明可用于提升膜层品质。 | ||
| 申请公布号 | CN103439839B | 申请公布日期 | 2015.12.02 |
| 申请号 | CN201310339744.1 | 申请日期 | 2013.08.06 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 唐华;赵冉 |
| 分类号 | G02F1/1343(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1343(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 柴亮;张天舒 |
| 主权项 | 一种形成膜层的方法，其特征在于，包括：在基板上形成第一层膜；对所述第一层膜进行第一次清洗；在所述第一层膜上形成第二层膜，所述第二层膜的材料与第一层膜的材料相同；对所述第二层膜进行第二次清洗；其中形成所述第一层膜和所述第二层膜时，设备功率为6.8KW～7.8KW。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||