发明名称 用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件
摘要 本发明提供了一种用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件,该支持件包括:一个将所述光学涂层液体合成物引入到其内的坩埚;其中所述支持件(30)进一步包括一个形成封套的框架(36,37),所述坩埚和所述光学涂层液体合成物被包裹在该封套内;所述框架(36,37)具有一个内部空间并且被配置成在所述内部空间具有的内部压力低于一个预先确定的压力阈值时气密地密封所述坩埚和所述光学涂层液体合成物,并且被配置成在所述内部空间的所述内部压力大于所述预先确定的压力阈值时使所述光学涂层液体合成物的蒸气泄出;借助于该框架,所述支持件(30)构成光学涂层液体合成物的一个匣。
申请公布号 CN103930590B 申请公布日期 2015.12.02
申请号 CN201280055044.3 申请日期 2012.11.09
申请人 埃西勒国际通用光学公司 发明人 F·沙佩;D·孔特
分类号 C23C14/24(2006.01)I;C23C16/448(2006.01)I 主分类号 C23C14/24(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 白皎
主权项 用于通过蒸发处理将光学涂层液体合成物沉积在光学物品上的支持件,该支持件包括:一个坩埚和被引入到所述坩埚内的一种光学涂层液体合成物;其中所述支持件进一步包括一个形成了封套的框架,所述坩埚和所述光学涂层液体合成物被包裹在该封套内;所述框架具有一个内部空间并且被配置成在所述内部空间具有的内部压力低于一个预先确定的压力阈值时气密地密封所述坩埚和所述光学涂层液体合成物,并且被配置成在所述内部空间的所述内部压力大于所述预先确定的压力阈值时使所述光学涂层液体合成物的蒸气泄出;借助于该框架,所述支持件构成光学涂层液体合成物的一个匣;其中,所述框架包括独特且联接在一起的一个断开构件和一个传导构件;所述传导构件具有底部部分、连接到底部部分上的管状侧向部分、由底部部分和管状侧向部分界定的内部空间和在底部部分的相反处形成的开口,所述管状侧向部分具有限定了传导构件的内直径的内侧周界和限定了传导构件的外直径的外侧周界,传导构件的内直径大于坩埚的直径;所述断开构件包括盖板部分、连接到盖板部分上的圆柱形侧向部分、由盖板部分和圆柱形侧向部分界定的内部空间以及形成在盖板部分的相反处的开口,所述圆柱形侧向部分具有限定断开构件的内直径的内侧周界和限定断开构件的外直径的外侧周界,断开构件的内直径比坩埚的直径大,断开构件的外直径比传导构件的内直径小;并且所述传导构件以其内侧周界压皱联接在断开构件的外侧周界上。
地址 法国沙朗通勒蓬