| 发明名称 | 用于静电保护的高压NLDMOS结构 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于静电保护的高压NLDMOS结构，包括一N型LDMOS，形成于一硅衬底上方的N型埋层内；N型LDMOS排列成多指状结构；位于两个漏区之间的源区为共源区；所述漏区的有源区内由N型有源区与P型有源区沿长度方向相间排布；所述共源区内插入P型有源区，P型有源区嵌入在N型有源区内，P型有源区将源区内的N型有源区分别隔开；P型有源区与N型有源区沿长度方向相间排布；所有的漏极共连接ESD进入端，所有的源极共连接地，所有的栅极共连接信号端。本发明通过改变源区上靠近栅极的P+扩散区的宽度，能够有效调整触发电流和骤回电压。本发明用于高压静电保护，既可以有效地提高LDMOS的抗闩锁能力，又能够保证其静电防护能力不受影响。 | ||
| 申请公布号 | CN103545365B | 申请公布日期 | 2015.12.02 |
| 申请号 | CN201210240391.5 | 申请日期 | 2012.07.12 |
| 申请人 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 发明人 | 苏庆;苗彬彬;王邦磷;邓樟鹏 |
| 分类号 | H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/36(2006.01)I | 主分类号 | H01L29/78(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人 | 张骥 |
| 主权项 | 一种用于静电保护的高压NLDMOS结构，其特征在于：包括一N型LDMOS，形成于一硅衬底上方的N型埋层内；N型LDMOS排列成多指状结构；位于两个漏区之间的源区为共源区；所述漏区的P型有源区位于N型有源区内，P型有源区在N型有源区内间隔排布；所述共源区内插入P型有源区，P型有源区嵌入在N型有源区内，P型有源区将源区内的N型有源区分别隔开；P型有源区与N型有源区沿长度方向相间排布；所有的漏极共连接ESD进入端，所有的源极共连接地，所有的栅极共连接信号端。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 | ||