发明名称 一种压力锅锅盖清洗方法及清洗系统
摘要 本发明公开了一种压力锅锅盖清洗方法及清洗系统,包括工件输送装置以及沿着工件传送装置依次排列的第一超声波清洗工位、第二超声波清洗工位、第一漂洗工位、第一喷淋工位、镀膜工位、第二漂洗工位、第二喷淋工位、纯水清洗工位和干燥工位。本发明在提供一种实现较高生产效率、保证产品质量同时降低人工成本的压力锅锅盖清洗方法及清洗系统。
申请公布号 CN105105625A 申请公布日期 2015.12.02
申请号 CN201510499298.X 申请日期 2015.08.14
申请人 杭州利富豪机电设备有限公司 发明人 高冠敏;陈国良
分类号 A47J27/08(2006.01)I;A47J36/00(2006.01)I 主分类号 A47J27/08(2006.01)I
代理机构 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人 尉伟敏
主权项 一种压力锅锅盖清洗方法,包括以下步骤:(a)在温度40±5摄氏度的酸性环境下,以除蜡水为介质,将压力锅锅盖在行进过程中进行超声波清洗,超声波清洗时间3‑5分钟;(b)在温度40±5摄氏度的酸性环境下,以除蜡水为介质,将压力锅锅盖在行进过程中进行超声波清洗,超声波清洗时间3‑5分钟;(c)将压力锅锅盖在常温环境下,以清水为介质依次进行漂洗和喷淋清洗;(d)将压力锅锅盖在常温中性环境下,在表面保护剂中漂洗形成表面保护膜,漂洗时间3‑5分钟;(e)将压力锅锅盖在常温环境下,以清水为介质依次进行漂洗和喷淋清洗;(f)将压力锅锅盖进行干燥,干燥温度为40±5摄氏度,干燥时间1‑2分钟。
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