曝光方法及曝光装置以及元件制造方法

主权项

一种曝光装置，系透过投影光学系统与液体进行基板之曝光，其具备：载台，保持该基板；液体供给机构，以该液体于该基板之上表面的一部分形成液浸区域之方式将该液体供给至该投影光学系统下；液体回收机构，从该液浸区域回收该液体；以及控制装置，系依于该基板上之液体接触面所形成之膜构件之与该液体之亲和性，调整用以形成该液浸区域的液浸条件。