发明名称 半导体装置及电子装置
摘要
申请公布号 TWI511109 申请公布日期 2015.12.01
申请号 TW100100330 申请日期 2011.01.05
申请人 半导体能源研究所股份有限公司 发明人 宍户英明
分类号 G09G3/20;G09G3/34 主分类号 G09G3/20
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种半导体装置,包括:第1至第n开关(n为2或更大的自然数),配置成于第一期间导通,并于第二期间断开;第(n+1)至第m开关(m为n+2或更大的自然数),配置成于第一期间断开,并于第二期间导通;第1至第n信号线;以及第(n+1)至第m信号线,其中,于该第一期间,透过该第1开关,将信号供至该第1信号线,且该第1信号线在该第二期间内处于浮接状态,其中,于该第一期间,透过该第n开关,将信号供至该第n信号线,且该第n信号线在该第二期间内处于浮接状态,其中,于该第一期间,该第(n+1)信号线处于浮接状态,且于该第二期间,透过该第(n+1)开关,将信号供至该第(n+1)信号线,其中,于该第一期间,该第m信号线处于浮接状态,且于该第二期间,透过该第m开关,将信号供至该第m信号线,其中,该第1至第m信号线平行或大致平行,其中,该第n信号线与该第(n+1)信号线间之距离大于该第(n-1)信号线与该第n信号线间之距离,并大于该第(n+1)信号线与该第(n+2)信号线间之距离, 其中,该第1至第m开关系第1至第m电晶体,其中,包含移位暂存器电路,其控制该第1至第m电晶体之切换,以及其中,该移位暂存器电路包含电晶体,该电晶体之通道形成区包括氧化物半导体。
地址 日本