发明名称 高速原子层沉积装置
摘要
申请公布号 TWI510670 申请公布日期 2015.12.01
申请号 TW098116810 申请日期 2009.05.20
申请人 ASM国际股份有限公司 发明人 格瑞纳兰 恩斯特H A;凡 努腾 塞巴斯汀E
分类号 C23C16/54;H01L21/205 主分类号 C23C16/54
代理机构 代理人 黄志扬 台北市中山区长安东路1段23号10楼之1
主权项 一种原子层沉积装置,包括一第一壁;一第二壁,与该第一壁平行且互相间隔;两侧壁,与该第一壁及该第二壁共同界定一处理通道,该处理通道允许一实质上平坦并与该第一壁及第二壁平行之基板容纳于其中,并使该基板的顶部及底部分别与该第二壁及该第一壁留有一缝隙,该处理通道具有一作为该基板在该处理通道中传送方向的纵向方向,以及一实质上与该纵向方向垂直并与该第一壁及该第二壁平行的横向方向;一传送系统,用于自该通道之入口、沿该传送方向向其一出口传送一系列该等基板或者带形连续基板;复数气体出口,直接设置于该些侧壁上以限制自该处理通道中流出的气体;其中,该第一壁及该第二壁皆具有复数个气体注入通道,该些气体注入通道的输出开口可沿该横向方向及该传送方向以间隔方式设置并分布于该第一壁及该第二壁的内壁面上,且该些气体注入通道被组态成将气体注入该处理通道以形成浮动支撑该基板的气体轴承;其中,自该传送方向观察,至少该第一壁之该些气体注入通道被次序连接至一第一前驱物气体源、一清除气体源、一第二前驱物气体源及一清除气体源,以在该输送方向上形成复数个依序排列的通道段,每一该通道段在使用中具有沿该输送方向横向依序排列的若干连续区域,该等连续区域各别包括一第一前驱物气体、一清除气体、一第二前驱物气体及一清除气体;其中,该些气体注入通道及该些气体出口的位置被组态成使所述气体在所述连续区域中实质上横向的朝向该些气体出口吹送;其中,该清除气体横向流动所形成的该清除气体区域构成使该第一前驱物气体及该第二前驱物气体彼此隔离的气相扩散障壁。
地址 荷兰