| 发明名称 |
图案化的方法与图案化的装置;PATTERNING METHOD AND PATTERNING APPARATUS |
| 摘要 |
一种图案化的方法，包括在材料层上形成图案化的罩幕层，图案化的罩幕层具有第一开口裸露出部分材料层。进行前处理制程以对第一开口裸露的材料层改质，而形成改质区。进行蚀刻制程以移除改质区的材料层，而形成第二开口。 |
| 申请公布号 |
TW201545202 |
申请公布日期 |
2015.12.01 |
| 申请号 |
TW103117261 |
申请日期 |
2014.05.16 |
| 申请人 |
旺宏电子股份有限公司 MACRONIX INTERNATIONAL CO., LTD. |
发明人 |
杨大弘 YANG, TA HONE |
| 分类号 |
H01L21/027(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H01L21/365(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
詹铭文叶璟宗 |
| 主权项 |
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| 地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行路16号 TW |
