发明名称 电浆处理系统内之电浆局限构造
摘要
申请公布号 TWI511620 申请公布日期 2015.12.01
申请号 TW098143675 申请日期 2009.12.18
申请人 兰姆研究公司 发明人 哈得森 艾瑞克;费雪 安德里斯
分类号 H05H1/16;H05H1/46 主分类号 H05H1/16
代理机构 代理人 许峻荣 新竹市民族路37号10楼
主权项 一种可动式电浆局限构造,其用以在基板之电浆处理期间将电浆局限于电浆处理室中,包含:一可动式面向电浆构造,其系用来围绕该电浆;及一可动式导电构造,其系配置于该可动式面向电浆构造之外部,且被装设成与该可动式面向电浆构造一起展开及缩回如同单一单元,以促进该基板之处理,该可动式导电构造在该电浆处理期间为射频(RF,radio frequency)接地,其中,在该电浆处理期间,该可动式面向电浆构造系配置于该电浆与该可动式导电构造之间,以使来自该电浆之RF电流在该电浆处理期间经由该可动式面向对电浆构造流至该可动式导电构造。
地址 美国